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射频等离子体增强化学气相沉积设备

简要描述：射频PECVD(射频等离子体增强化学气相沉积设备)是一种研发新材料的gao端设备，在高频电磁场作用下产生高活性等离子体，从而实现材料生长、材料表界面改性等；

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详细介绍

品牌	其他品牌	应用领域	环保,化工,生物产业,制药,综合

在金属化合物研发上的应用

1、金属化合物的制备及掺杂调控和结构优化可在不同材料基底(金属、碳、玻璃、半导体等)上，可控制备不同类型金属化合物材料(氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、硒化物等),并实现了多元素掺杂(硼、硫、氟、磷等)和结构优化。

使用本设备可以直接制备金属化合物材料(氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、硒化物等),亦可实现金属氧化物、氮化物、硫化物、磷化物、硒化物、磷化物、硼化物、氟化物、碳化物之间的相互转化、异质构筑、异质元素掺杂和改性。

2、MOF材料衍生物制备

可对不同的MOF材料进行等离子体转化合成不同类型的金属化合物(如金属氧化物、金属碳化物、金属硫化物、金属磷化物、金属硒化物、金属氮化物等),并实现了多元素掺杂(氮、硼、氟、磷、硫、硒等)和结构优化。

在功能金属研发上的应用

|1、镍纤维、钴纤维、钛纤维、不锈钢纤维等的界面改性及掺杂调控和结构优化

可对金属纤维(镍纤维、钴纤维、钛纤维、不锈钢纤维等)表界面进行组分优化和物相调控，可在其表面实现多元素掺杂(氮、硫、氟、磷等)和物相结构优化，比如将其界面组分改造为各类型金属化合物(如氧化物、碳化物、硫化物、磷化物、硒化物、氮化物等),使其具有良好的导电性和催化储能性能。

2、泡沫镍、泡沫铜的界面改性及掺杂调控和结构优化

可对泡沫镍(泡沫铜)表界面进行组分优化和物相调控，可在其表面实现多元素掺杂(氮、硫、氟、磷等)和物相结构优化，比如将其界面组分改造为各类型金属化合物(如氧化物、碳化物、硫化物、磷化物、硒化物、氮化物等),使其具有良好的导电性和催化储能性能。

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